详细介绍
| 品牌 | 明慧 | 价格区间 | 1-5万 |
|---|---|---|---|
| 配备图像分析系统 | 是 | 产品种类 | 正置 |
| 产地类别 | 国产 | 应用领域 | 电子/电池,道路/轨道/船舶,机械设备 |
研究级明暗场金相显微镜MHML43M是广州明慧科技推出的一款面向科研与工业检测的研究级明暗场金相显微镜,采用无限远色差校正光学系统与T型刚性屋盖架构,集成明场、暗场、偏光、DIC微分干涉多种观察模式,搭载编码物镜转换与智能光强记忆功能,成像精度高、拓展性强,可为材料分析、工业制程检测提供的成像解决方案。

研究级明暗场金相显微镜MHML43M
光学成像系统
采用无限远色差校正光学系统,标配SWH10X高眼点大视野平场目镜,搭载5X/10X/20X/50X专业无限远半复消色差明暗场金相物镜;可选配全复消色差物镜系列与100X物镜,支持超宽视野观测,成像清晰锐利。
机械结构设计
整机采用T型刚性屋盖架构,抗形变能力强、运行稳定性高;透反两用机架配备低手位粗微同轴调焦机构,粗调行程27mm,微调精度达0.001mm,带有松紧调节、上限位与随机限位装置,可防护样品与物镜。标配3X2双层机械移动平台,移动范围75mm×50mm,支持金属/玻璃载物台板选配,最大兼容样品高度38mm。
照明与光学附件
上下照明均采用10W大功率暖色LED光源,反射照明为柯拉照明设计,配备视场光阑与孔径光阑;透射端配置NA0.9消色差聚光镜,中心可调。标配360°旋转式偏光装置,可消除杂光、提升细节辨识度;可选配DIC微分干涉片,将样品细微高低差转化为高对比度立体浮雕成像。
智能与拓展功能
配备5孔编码型可对中物镜转换器,可与图像分析软件联动,实时同步倍率参数、自动校准测量标尺,避免人为倍率误差。内置智能亮度记忆功能,切换物镜时自动匹配对应光强,降低长时间观测的视觉疲劳。
支持三目摄像输出,标配0.5X可调焦C型摄像接筒,可选配500万-2000万像素相机,兼容4K高清成像、超景深融合、高精度测量、金相分析等多类成像系统,适配多元化检测需求。
产品参数
型号 | MHML43M | |
明场/暗场/偏振光/编码/光强记忆 | ||
光学系统 | 无限远色差校正光学系统 | |
目镜 | 高眼点大视野平场目镜SWH10X23mm(视度可调) | |
物镜 | 专业无限远半复消色差明暗场金相物镜5X NA0.15, WD14.35mm | |
专业无限远半复消色差明暗场金相物镜10X NA0.30, WD8.5mm | ||
专业无限远半复消色差明暗场金相物镜20X NA0.45, WD3mm | ||
专业无限远半复消色差明暗场金相物镜50X NA0.75, WD3.0mm | ||
观察筒 | 倒像,无限远铰链三目观察筒,瞳距调节范围:50mm~76mm;两档式分光比:100:0,50:50 | |
转换器 | 5孔编码型明暗场可对中物镜转换器 | |
机架 | 透反两用机架,低手位粗微同轴调焦机构,粗调行程27mm,微调精度0.001mm。带有防止下滑的调节松紧装置和随机上限位装置。带平台位置上下调节机构,最大样品高度38mm | |
载物台 | 3X2双层机械移动平台,低手位X、Y方向同轴调节;平台面积210X175mm,工作台面:135X125mm,玻璃台面:101X101mm,移动范围:75mmX50mm可配反射用金属载物台板,透反两用玻璃载物台板 | |
上照明系统 | 反射灯室,单颗大功率10WLED,暖色,柯拉照明,带视场光阑与孔径光阑,中心可调 | |
下照明系统 | 自适应宽电压,透射灯室,单颗大功率10WLED,暖色 | |
聚光镜 | 透射用消色差聚光镜(N.A0.9),带可变孔径光阑,中心可调 | |
偏光装置 | 起偏镜插板,360°旋转式检偏镜插板 | |
摄像附件 | 0.5X摄像接筒.C型接口.可调焦 | |
标尺 | 高精度测微尺,格值0.01mm | |
选附件 | 目镜 | 高眼点大视野平场目镜SWH10X25mm,视度可调,可带测微尺 |
干涉片 | DIC微分干涉片 | |
观察头 | 正像,三目 | |
物镜 | 平场半复金相明暗场100X NA0.90 WD1 | |
平场全复金相明暗场100X NA0.80,WD3.0 | ||
平场全复金相明暗场20X NA0.45,WD8.5 | ||
平场全复金相明暗场50X NA0.80,WD1 | ||
平场全复金相明暗场50X NA0.55,WD8 | ||
载物台 | 右手位4英寸机械平台,移动行程:105mmX102mm机械平台,X、Y方向同轴调节;可带透射系统挡光板,带玻璃载物台板(选配) | |
相机 | 500万、600万、900万、1200万、2000万等相机 | |
接口 | 1X,0.65X | |
产品标签:
MHML43M覆盖材料科研与工业制造多类检测场景,核心应用领域包括:
半导体与PCB检测:依托偏振系统抑制杂光,清晰观测晶圆结构、PCB线路细节,识别制程缺陷;
电子显示检测:通过DIC微分干涉成像,检测LCD导电粒子、面板表面微划痕与微结构特征;
精密零部件检测:观测精密磁盘、五金器件的表面形貌、镀层状态、热处理组织与损伤缺陷;
材料科学研究:支持金属、非金属材料的金相组织分析,适配高校、科研院所的材料学研究工作。
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